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氮化¼‹…厂家æ€È»“一些关于æÛ化硅的信æ?/h1>
æ¥æºåQšhttp://www.zhengbodiaosu.com/news928298.htmlå‘布旉™—´åQ?017/5/19 0:00:00
氮化¼‹?/strong>是一¿U比较常è§çš„一¿UæÛåŒ–ææ–™ï¼Œåœ¨å¸‚åœÞZ¸Šçš„应用空间也比较òq¿æ³›åQŒä½†æ˜¯ä¾ç„¶æœ‰ä¸€éƒ¨åˆ†äººå¯¹äº?a href="/product870117.html" target="_blank">氮化¼‹?/strong>òq¶ä¸æ˜¯å¾ˆäº†è§£åQŒäؓ了让更多的äh认识了解氮化¼‹…,促进氮化¼‹…快速å‘展,ž®†ç®€å•çš„æ€È»“一些关于æÛ化硅的基本信æ¯ã€‚æÛ化硅用åšé«˜çñ”è€ç«ææ–™åQŒå¦‚与sic¾l“åˆä½œSI3N4-SICè€ç«ææ–™ç”¨äºŽé«˜ç‚‰ç‚‰èín½{‰éƒ¨ä½ï¼›å¦‚与BN¾l“åˆä½œSI3N4-BNææ–™åQŒç”¨äºŽæ°´òqŒ™¿žé“¸åˆ†¼›ÈŽ¯ã€‚SI3N4-BN¾pÀL°´òqŒ™¿žé“¸åˆ†¼›ÈŽ¯æ˜¯ä¸€¿U细¾l“æž„é™¶ç“·ææ–™åQŒç»“æž„å‡åŒ€åQŒå…·æœ‰é«˜çš„æœºæ¢°å¼ºåº¦ã€‚è€çƒå†²å‡»æ€§å¥½åQŒåˆä¸ä¼šè¢«é’¢æ¶²æ¹¿æ¶¦ï¼Œ½W¦åˆ˜qžç çš„å·¥è‰ø™¦æ±‚ã€?/span>
氮化¼‹…的物ç†ç‰©æ€§ï¼Œç›¸å¯¹åˆ†åè´¨é‡140.28。ç°è‰ŒÓ€ç™½è‰²æˆ–ç°ç™½è‰ŒÓ€‚å…æ–ÒŽ™¶¾p…R€‚晶体呈å…é¢ä½“。密åº?.44。莫æ°ç¡¬åº?~9.5åQŒç»´æ°ç¡¬åº¦çº¦ä¸?200åQŒæ˜¾å¾®ç¡¬åº¦äØ“32630MPa。熔ç‚?900â„ƒï¼ˆåŠ åŽ‹ä¸‹ï¼‰ã€‚é€šå¸¸åœ¨å¸¸åŽ‹ä¸‹1900℃分解。比çƒå®¹0.71J/(g·K)。生æˆçƒä¸?751.57kJ/mol。çƒå¯¼çއä¸?6.7W/(m·K)。线膨胀¾pÀL•°ä¸?.75×10-6/â„?20~1000â„?ã€‚ä¸æº¶äºŽæ°´ã€‚溶于氢氟酸。在½Iºæ°”ä¸å¼€å§‹æ°§åŒ–的温度1300~1400℃。比体积电阻åQ?0℃时ä¸?.4×105·m,500℃时ä¸?×108·m。弹性模é‡äØ“28420~46060MPa。è€åŽ‹å¼ºåº¦ä¸?90MPaåQˆå应烧¾l“çš„åQ‰ã€?285æ‘„å¼åº¦æ—¶ä¸ŽäºŒæ°®åŒ–二钙å应生æˆäºŒæÛ¼‹…化钙,600度时使过渡金属还原,攑ևºæ°®æ°§åŒ–ç‰©ã€‚æŠ—å¼¯å¼ºåº¦äØ“147MPa。å¯ç”Þq¡…¾_‰åœ¨æ°®æ°”ä¸åŠ çƒæˆ–å¤åŒ–¼‹…与氨å应而制得ã€?/span>
氮化¼‹…è¿˜èƒ½åº”ç”¨åˆ°å¤ªé˜³èƒ½ç”µæ± ä¸ã€‚用PECVD法镀氮化¼‹…膜åŽï¼Œä¸ä½†èƒ½ä½œä¸ºå‡å射膜å¯å‡å°å…¥å°„光的åå°„åQŒè€Œä¸”åQŒåœ¨æ°®åŒ–¼‹…薄膜的沉积˜q‡ç¨‹ä¸ï¼Œå应产物氢原å进入æÛ化硅薄膜以劼‹…片内,起到了é’化缺é™ïLš„作用。这里的氮化¼‹…æÛ¼‹…åŽŸåæ•°ç›®æ¯”òq¶ä¸æ˜¯ä¸¥æ ¼çš„4:3åQŒè€Œæ˜¯æ ÒŽ®å·¥è‰ºæ¡äšgçš„ä¸åŒè€Œåœ¨ä¸€å®šèŒƒå›´å†…波动åQŒä¸åŒçš„åŽŸåæ¯”ä¾‹å¯¹åº”çš„è–„è†œçš„ç‰©ç†æ€§è´¨æœ‰æ‰€ä¸åŒã€?/span>
更多关于氮化¼‹…的相关信毞®½åœ¨******çš?a href="http://www.zhengbodiaosu.com" target="_blank">氮化¼‹…厂å®?/strong>åQŒå®‰é˜›_¸‚æ’安冉™‡‘è€ææœ‰é™è´£ä“Qå…¬å¸åQŒå¹¿å¤§æ–°è€ç”¨æˆ·ä¸€æ–šw¢å¯ä»¥æ‹¨æ‰“我公å¸çƒ¾U¿ç”µè¯å’¨è¯¢ï¼Œå¦ä¸€æ–šw¢å¯ä»¥ç™Õd½•我公å¸ç½‘站查看想è¦äº†è§£çš„ä¿¡æ¯åQŒæ— è®ºæ˜¯å“ªç§æ–¹å¼åQŒæˆ‘å…¬å¸éƒ½èƒ½ä¸ºæ‚¨è§£ç”é—®é¢˜ã€‚äØ“æ‚¨è§£½{”ç–‘æƒ‘ï¼Œä»Žè€Œæ›´åŠ äº†è§£æÛ化硅åQŒäؓ了的需求æä¾›é«˜å“质的æÛ化硅åQŒæ‰€ä»¥æ¬¢˜qŽå¹¿å¤§æ–°è€ç”¨æˆ·ä¸Žæˆ‘å…¬å¸è”¾pÕdˆä½œã€?/span>
上一æ¡ï¼šé«˜çº¯æ°®åŒ–¼‹…粉生äñ”‹¹ç¨‹ä¸‹ä¸€æ¡ï¼šåˆ¶å¤‡æ°®åŒ–é”°çš„æ“作è¦ç‚¹æœ‰å“ªäº?/a>
氮化¼‹?/strong>是一¿U比较常è§çš„一¿UæÛåŒ–ææ–™ï¼Œåœ¨å¸‚åœÞZ¸Šçš„应用空间也比较òq¿æ³›åQŒä½†æ˜¯ä¾ç„¶æœ‰ä¸€éƒ¨åˆ†äººå¯¹äº?a href="/product870117.html" target="_blank">氮化¼‹?/strong>òq¶ä¸æ˜¯å¾ˆäº†è§£åQŒäؓ了让更多的äh认识了解氮化¼‹…,促进氮化¼‹…快速å‘展,ž®†ç®€å•çš„æ€È»“一些关于æÛ化硅的基本信æ¯ã€‚æÛ化硅用åšé«˜çñ”è€ç«ææ–™åQŒå¦‚与sic¾l“åˆä½œSI3N4-SICè€ç«ææ–™ç”¨äºŽé«˜ç‚‰ç‚‰èín½{‰éƒ¨ä½ï¼›å¦‚与BN¾l“åˆä½œSI3N4-BNææ–™åQŒç”¨äºŽæ°´òqŒ™¿žé“¸åˆ†¼›ÈŽ¯ã€‚SI3N4-BN¾pÀL°´òqŒ™¿žé“¸åˆ†¼›ÈŽ¯æ˜¯ä¸€¿U细¾l“æž„é™¶ç“·ææ–™åQŒç»“æž„å‡åŒ€åQŒå…·æœ‰é«˜çš„æœºæ¢°å¼ºåº¦ã€‚è€çƒå†²å‡»æ€§å¥½åQŒåˆä¸ä¼šè¢«é’¢æ¶²æ¹¿æ¶¦ï¼Œ½W¦åˆ˜qžç çš„å·¥è‰ø™¦æ±‚ã€?/span>
氮化¼‹…的物ç†ç‰©æ€§ï¼Œç›¸å¯¹åˆ†åè´¨é‡140.28。ç°è‰ŒÓ€ç™½è‰²æˆ–ç°ç™½è‰ŒÓ€‚å…æ–ÒŽ™¶¾p…R€‚晶体呈å…é¢ä½“。密åº?.44。莫æ°ç¡¬åº?~9.5åQŒç»´æ°ç¡¬åº¦çº¦ä¸?200åQŒæ˜¾å¾®ç¡¬åº¦äØ“32630MPa。熔ç‚?900â„ƒï¼ˆåŠ åŽ‹ä¸‹ï¼‰ã€‚é€šå¸¸åœ¨å¸¸åŽ‹ä¸‹1900℃分解。比çƒå®¹0.71J/(g·K)。生æˆçƒä¸?751.57kJ/mol。çƒå¯¼çއä¸?6.7W/(m·K)。线膨胀¾pÀL•°ä¸?.75×10-6/â„?20~1000â„?ã€‚ä¸æº¶äºŽæ°´ã€‚溶于氢氟酸。在½Iºæ°”ä¸å¼€å§‹æ°§åŒ–的温度1300~1400℃。比体积电阻åQ?0℃时ä¸?.4×105·m,500℃时ä¸?×108·m。弹性模é‡äØ“28420~46060MPa。è€åŽ‹å¼ºåº¦ä¸?90MPaåQˆå应烧¾l“çš„åQ‰ã€?285æ‘„å¼åº¦æ—¶ä¸ŽäºŒæ°®åŒ–二钙å应生æˆäºŒæÛ¼‹…化钙,600度时使过渡金属还原,攑ևºæ°®æ°§åŒ–ç‰©ã€‚æŠ—å¼¯å¼ºåº¦äØ“147MPa。å¯ç”Þq¡…¾_‰åœ¨æ°®æ°”ä¸åŠ çƒæˆ–å¤åŒ–¼‹…与氨å应而制得ã€?/span>
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